精密光學平臺機械機構、特點、外形設計與“氣墊式精密隔振平臺”相同，不同之處僅是未加氣墊，該型號的平臺為廣大用戶提供了更多的選擇機會。通常采用先進的電機和傳感器技術，可以提供亞微米級別的平移和旋轉控制，使得用戶可以在一個高度準確的位置上對樣品進行操作。為了達到更高的控制精度，通常結合了先進的反饋系統和精密測量設備，可以實現對物體位置、速度、振動等多個方面的高度保持與控制。在光學試驗、顯微學以及半導體制造等領域，通常需要將樣品或器件放置在一個高度穩定精密控制的平臺上進行操作。是一種專用于實現這一目的的精密運動控制裝置。 
精密光學平臺的應用：
顯微學：是一個關鍵的工具，用于顯微鏡圖像獲取、分析和處理過程中樣本的調整和擺放。
半導體制造：在芯片制造、線寬校準和接觸式掩模制作(photolithography)等應用中，都發揮著重要作用，提供高精度的位置和角度控制。
光刻：是用于將納米或微米尺度部件寫入大型平板中的必要工具之一。
太陽能電池：在太陽能電池生產中，被用于設備和材料的對準和精細控制。
精密光學平臺的維護保養：
1.保持平臺表面干燥、清潔，防止灰塵等附著在上面影響穩定性。
2.平臺底部安裝防震墊可以抑制震動，增強其精度和穩定性。
3.根據制造商說明，使用適當的潤滑劑定期進行潤滑，確保運動間隙不會磨損過度。
4.要避免濕度、較高溫度和塵土過多的環境以及長時間不使用的情況下應該妥善存放已平衡并固定好的平臺。
精密光學平臺特點：
高導磁不銹鋼面板。
25×25M 6安裝螺孔方陣。
蜂窩結構隔振層面、固有頻率低、隔震性能好。
中碳鋼墻板，剛性好。
主要參數
平面粗糙度不大于0.8μm
平面度不大于0.05mm/m2
規格
1200×800×800mm
1500×1000×800mm
1800×1200×800mm
2400×1200×800mm
其它尺寸可以定做
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